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区分镜片表面被腐蚀的对应方法
作者:mg国际老虎机   发布时间:2019-09-04 21:34

  光学玻璃的结构:以硅酸盐为主(SiO3)加上Mg(镁)Ba(钡)K(钾)La(钄)Pb(铅)等几十种离子混合而成。而Mg(镁)Ba(钡)K(钾)La(钄)Pb(铅)等是活性金属离子,它们是用来调节镜片的折射率(nd)、色散系数(vd)的添加剂.按理论分析正常状态的玻璃的结构是具有均匀性、混合分布各种离子、离子键及化学键。但在加工过程中受各种因素的影响而使镜片结构发生变化(形成硅酸溶胶)。

  不良定义:不良即腐蚀、发霉,指镜片研磨完品或膜层上形成化学腐蚀层,从而从镜片表面看与正常状态有颜色差异。不良大致可以分为膜上不良和膜下不良。下列为常见的几种现象:

  1、镀前不良(镜片表面本身污染/表面腐蚀/水分残留/溶剂残留,镀前已可见):

  ---镜片在研磨过程中研磨液(研磨液通常PH值6.5-7.5但在加工过程会发生变化,由于硅酸盐、金属离子与研磨液发生化学反应,造成PH值变化)对镜片的腐蚀,镀前反射光可见灰暗不同现状的痕迹;

  ---研磨完品未及时进行清洗(或擦拭),研磨残留(研磨液或水)对镜片的腐蚀;

  ---因镜片放置在镀膜伞的不同位置,基底温度不均匀;造成镀膜伞上、中、下膜色差异;

  ---镀膜使用离子源时,离子覆盖的范围没有调整合适,离子流密度不均匀造成;

  ---膜上脏,包括普通可擦拭的脏和难擦拭的脏污;镀膜真空室长期未清洁(洁净度差),膜层致密度低,灰尘、脏污粘付到膜层上时难以擦拭;镀膜后膜层污染,经高温环境后形成膜层脏污;

  ---因镜片表面研磨表面Ra(粗糙度)大,镀膜前擦拭可感觉有涩感;镀膜后擦拭表面形成雾状,经超声波洗净后OK;

  ---白不良:镀后在透过光下能见白色雾状层,为镀前产生;镜片表面残留物(研磨保护漆)在真空室经高温烘烤分解,在表面形成白雾层,可用溶剂擦拭去除;镀前不可见;

  ---镜片表面富含透明残留物经高温烘烤后,与镜片发生反应形成表面剧烈腐蚀;镀前不可见;---色不良:研磨后不明显,镀膜放置后加重;镀前不可见

  ---色斑:研磨涂保护漆前已研磨好表面残留的水痕、研磨液没有及时去除彻底,涂好保护漆经高温烘烤好在表面形成腐蚀痕;

  ---由于膜料特性及镀膜工艺不稳定造成膜层致密性差,镀后吸收水份与O2离子,擦拭无明显变化,烘烤或放置一段时间后会变严重或消失;可通过测试高温与低温时分光曲线nm)显现。

  ---膜层结晶时高温下受损(某一层膜厚太薄≤160A),膜料与基底发生反应,高温下再结晶时不均匀,形成局部分光特性变化;

  ---镀膜真空室内油污严重,存在大量各类杂质气体,加热后吸附在镜片表面,造成膜层结晶粗糙,膜层在大气中吸附各类气体水分,形成局部分光特性变化,可通过测试高温与低温时分光曲线nm)显现;

  ---已镀膜镜片在擦拭作业后表面残留的溶剂、水痕等没有去除干净,又放入高温环境下烘烤;

  ---表面粗糙、半透明,主要因为材质软、研磨量不足或洗净时被化学溶剂腐蚀;

  ---镀膜膜料金属氧化物与O2造成(与O2反应不充分,特别是在使用离子源的时候),镜片置于白色背景可见底色;置于富氧环境中高温烘烤后,黑色斑点消失;

  ---研磨完品表面细(浅)、长、密的伤痕,主要因为材质软、砂挂残留、研磨量不足、研磨纸(粉)选择与配比不恰当,超洗加重潜伤等;

  ---镜片表面研磨加工时由于研磨液(浓度、PH值、颗粒、温度)等影响,镜片表面在化学流布的作用下形成光滑表面,但超声波洗净后使潜在伤痕显现,同时伴有研磨液与洗剂的腐蚀;

  ---洗净烘干时IPA纯度下降,(或其他烘干剂烘干效果不好)水份未及时蒸干;

  ---镜片表面水分与残留雾在真空室内,经高温解析后形成H++/OH-,在镜片表面蒸发与凝结形成表面轻微腐蚀。

  一.目前所有对策都是加快流程,杜绝人为造成镜片表面的污染(手指痕、口水痕、其他污物);

  ---砂挂条件变更(钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等)-确保砂挂完品表面粗糙度);

  ---研磨条件变更(加工时间、研磨纸、研磨液(PH、浓度、颗粒度)、温度、压力条件等-确保研磨完品表面粗糙度);

  ---研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分,保持表面的洁净度(注意清洁方法与清洁辅料与更换周期);

  ---镀后防尘措施(改善存放环境,降低泄大气前镜片温度,保持真空室内洁净度);

  ---防止镀膜后加工工序形成表面污染,如涂墨高温烘烤与粘合UV固化加重污染,造成表面脏污;

  ---洗净处理(确认洗剂浓度与PH值,提高超声波强度,延长洗净时间,特殊洗净工艺);

  ---研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分,保持表面的洁净度(注意清洁方法与清洁辅料与更换周期);

  ---研磨完品清擦(吸水棉布,擦拭后达可镀清洁度),二次清擦法,及时更换擦布;

  ---已擦拭好研磨完品防潮、防湿(研磨后立即泡IPA,卤素灯烘干+PE袋+干燥剂等);

  ---洗净处理(考虑材质及镜片形状对洗净条件进行调整,如洗净液、镜片放置方向等)

  ---镀膜工艺改进(膜层致密度提高(蒸发速率、基底温度、离子源使用、实际真空度、镀膜膜料、真空室的洁净度);

  ---使用高能离子去除表面残留污染,例如:使用SHINCRON SID-1100镀膜;

  ---砂挂加工条件改善(钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等)确保砂挂完品表面粗糙度;

  ---研磨条件变更(加工时间、研磨纸、研磨液、压力条件等)确保研磨完品表面粗糙度;

  ---镀膜第一层加AL2O3等,离子源电压(160V~120V)调整,与离子电流密度增加,离子源反应气体流量适当增加;


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