主页 > 新闻动态 >
关于我们 / ABOUT US
联系我们 / CONTACT US
mg国际老虎机玻璃材料有限公司
联系人:于波
联系电话:13068628996 13118899449
地址:广东省佛山市南海区狮山镇小塘东一街5号3楼
一种AG玻璃抛光液及AG玻璃生产工艺
作者:mg国际老虎机   发布时间:2020-04-17 03:00

  该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宜昌南玻显示器件有限公司;中国南玻集团股份有限公司,未经宜昌南玻显示器件有限公司;中国南玻集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】

  目前流行的蚀刻法AG加工工艺,浮法玻璃基板都是对玻璃的空气面直接进行蚀刻AG工艺或者在蚀刻AG工艺前增加弱酸预处理;该方法加工的AG玻璃满足一般客户要求,但针对高端领域,AG面微光粒子均匀性达不到理想效果。本发明是在该AG生产工艺基础上,增加专业物理抛光工序,对玻璃AG面在蚀刻前进行一次物理抛光处理,使玻璃AG面微观颗粒形貌均匀,从而在AG工序后达到更加均匀的AG效果。

  目前市面上流行的AG玻璃,主流工艺是采用腐蚀法制程生产AG玻璃;在玻璃空气面直接经过化学预处理后做蒙砂抛光工序,此工艺制备的AG玻璃表面粒子颗粒度均匀性较差:粒子凹坑直径极差范围为40~60um。实际测试一组数据,如在370mm*470mm大小玻璃面上,做成光泽度为75%的AG玻璃,整版玻璃表面9点测试粒子凹坑直径(RSM)数据如下:78um;89um;125um;90um;98um;126um;89um;96um;129um;9点极差范围在51um。

  目前流行的蚀刻法AG加工工艺,浮法玻璃基板都是对玻璃的空气面直接进行蚀刻AG工艺或者在蚀刻AG工艺前增加弱酸预处理;该方法加工的AG玻璃满足一般客户要求,但针对高端领域,AG面微光粒子均匀性达不到理想效果。

  一种AG玻璃抛光液,包括如下重量份的原料组成:CeO2占质量比为20-30%,La2O3占质量比为15-35%,质量浓度为40%的氢氟酸质量比为20-30%;质量浓度为40%硫酸占质量比为10-20%;质量浓度为75%硝酸占质量比为5-10%。

  进一步优选为包括如下重量份的原料组成:CeO2占质量比为25%,La2O3占质量比为20%,质量浓度为40%的氢氟酸质量比为25%;质量浓度为40%硫酸占质量比为17%;质量浓度为75%硝酸占质量比为8%。

  步骤四:对玻璃的非工作面用抗酸油墨做印刷保护,使其在后工序中保证不受任何影响;

  步骤五:对玻璃的工作面用药液进行预洗1-5min;药液主要成分为稀释的氢氟酸和硫酸,其中氢氟酸的浓度为2%;硫酸的浓度为1%;氢氟酸与硫酸的质量比2:1;

  步骤六:对玻璃工作面在蒙砂设备上,用蒙砂药液进行蒙砂处理50-100s,使玻璃工作面形成大小形状相似的非透明的微观凹坑形貌;

  步骤七:对玻璃工作面在化学抛光设备上,用AG玻璃抛光液进行抛光处理20-30min,使玻璃工作面上的非透明微观凹坑形貌处理透亮,达到漫反射效果从而形成AG防炫效果,即可完成AG玻璃的生产。

  所述的蒙砂药液成分及质量分数占比分别为:氟化氢铵50%~55%;氟硅酸铵3.5%~4%;淀粉6%~7%;柠檬酸13%~15%;氟化钙1.5%;水20%。将基板玻璃空气面经过特殊物理抛光后,再经过预处理后做蒙砂抛光工序,AG玻璃表面粒子颗粒度均匀性有很大提高,实际测试一组数据,如在370*470大小玻璃面上,做成光泽度为75%的AG玻璃,整版玻璃表面9点测试粒子凹坑直径(RSM)数据如下:88um;95um;92um;89um;94um;92um;94um;95um;92um;9点极差在7um;很大程度上提高了粒子凹坑直接均匀性。

  本发明是在现有AG生产工艺基础上,在弱酸预处理前对玻璃基板空气面进行特殊物理抛光,抛光粉粒直径均值约为1.0~1.6um的研磨粉(主要成分为CeO2,La2O3稀土材料)。通过精抛光工艺,实现玻璃表面微观粒子形貌均匀,从而在后面AG工序中达到粒子形貌更均匀,进一步提高AG制程良率。

  与现有的技术相比,本发明通过增加一道物理抛光工序来提高AG玻璃表面微观颗粒度,提高均匀性,粒子凹坑直径极差由原来的40~60um,提高到极差在10以内。同时,因为粒子凹坑均匀性提高,AG制程中的暗斑和暗点蚀刻不良减少,不良率由原来的10%以上下降到到3%以下。

  图1为用抛光粉抛光后,玻璃面的电镜结构图,其中图A为100倍放大图;图B为150倍放大图。

  步骤四:对玻璃的非工作面用抗酸油墨做印刷保护,使其在后工序中保证不受任何影响;

  步骤五:对玻璃的工作面用的药液进行预洗1-5min;药液主要成分为稀释的氢氟酸和硫酸,其中氢氟酸的浓度为2%;硫酸的浓度为1%;氢氟酸与硫酸的质量比2:1;

  步骤六:对玻璃工作面在蒙砂设备上,用蒙砂药液进行蒙砂处理50-100s,使玻璃工作面形成大小形状相似的非透明的微观凹坑形貌;

  步骤七:对玻璃工作面在化学抛光设备上,用AG玻璃抛光液进行抛光处理20-30min,使玻璃工作面上的非透明微观凹坑形貌处理透亮,达到漫反射效果从而形成AG防炫效果,即可完成AG玻璃的生产。

  所述的蒙砂药液成分及质量分数占比分别为:氟化氢铵50%~55%;氟硅酸铵3.5%~4%;淀粉6%~7%;柠檬酸13%~15%;氟化钙1.5%;水20%。

  所述的抛光液包括如下重量份的原料组成:CeO2占质量比为25%,La2O3占质量比为20%,质量浓度为40%的氢氟酸质量比为25%;质量浓度为40%硫酸占质量比为17%;质量浓度为75%硝酸占质量比为8%。

  本发明关键点主要为AG工艺制程前增加物理抛光工序;通过增加该物理抛光工序,使后面AG工序制程后玻璃表面微光颗粒度更均匀,降低AG工序中的蚀刻不均造成的暗点缺陷和暗斑缺陷。


mg国际老虎机