可用于集成电路芯片的清洗和腐蚀，是微电子行业制作过程中的关键性基础化工材料之一，目前项目的部分配套工程开始试运行，主体工程进行设备调试，试生产预计在年底左右，项目按原计划进行。

　　由于氢氟酸溶解氧化物的能力，它在铝和铀的提纯中起着重要作用，氢氟酸也用来蚀刻玻璃，可以雕刻图案、标注刻度和文字。

　　据了解，日本森田化学工业株式会社与浙江武义县，于 2017 年 11 月 14 日，举行微电子蚀刻材料项目签约仪式。2018 年 4 月 3 日，浙江森田新材料有限公司在武义县新材料产业园举行入园仪式。一期项目建成后形成 2 万吨 / 年蚀刻及清洗级氢氟酸，2.2 万吨 / 年 BOE(氟化铵)的生产能力。

　　森田化学社长森田康夫在今年 8 月份曾表示，由于强化出口管理“日本企业(面向韩国的高纯度氟化氢出口)的份额有可能下降”，森田化学也将在中国工厂启动高纯度氟化氢生产以向韩国供货。

　　新闻主体：浙江森田新材料有限公司成立于 2003 年，注册资金2700 万美元，公司坐落在浙江省金华市武义县青年路胡处微电子新材料产业园区，是一家由日本森田化学工业株式会社和浙江三美化工股份有限公司共同投资成立的中日合资企业。主要生产微电子蚀刻及清洗级材料，应用于半导体及微电子技术加工和太阳能光伏等行业，是集成电路制造的关键性基础材料之一。

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